ПЛАЗМЕННОЕ НАНЕСЕНИЕ ПЛЕНОК

Методсоздания плёнок различных материалов (диэлектриков, металлов, полупроводников и др.) на поверхности изделия с помощью компонентов газоразрядной плазмы (ионов, электронов, свободных радикалов и др.). П. н. п. является частью плазменной технологии и широко применяется в произ-ве ИЭТ. Посредством П. н. п. формируют, например, изоляц. и проводящие слои ИС, защитные покрытия изделий, работающих в агрессивных средах, при высоких температурах или интенсивных механич.

воздействиях, декоративные покрытия. П. н. п. может осуществляться как при нормальном атм. давлении, так и при пониженном, в вакууме. Для П. н. п. при атм. давлении применяют плазмотроны, с помощью которых мелкие частицы осаждаемого вещества (размером в единицы и десятки мкм) наносятся на поверхность изделия. С кон. 70-х гг. в технологии электронного приборостроения (в частности, при изготовлении ИС) более широко используется П. н. п. в вакууме, обеспечивающее создание сравнительно чистых, обладающих хорошей адгезией плёнок с высокой воспроизводимостью характеристик. Осн. способами П. н. п. в вакууме являются ионно-плазменный, ионно-лучевой и плазмохими-ческий.

При ионно-плазменном способе нанесения плёнок ионы плазмы (с энергией порядка 8-10-10 Дж), бомбардируя спец. мишень, расположенную вблизи обрабатываемого изделия (например, подложки), распыляют вещество с поверхности мишени, к-рое оседает на подложку в виде плёнки. Для этого применяют катодное, ВЧ, магнетронное и др. виды распыления. Вследствие того что мишень находится в зоне действия плазмы, давление рабочего газа у её поверхности сравнительно велико (более 1 Па), и зто приводит к загрязнению осаждаемой плёнки и тормозит процесс её образования.

При ионно-лучевом способе нанесения плёнки из плазмы выделяется поток ионов, который затем фокусируется и в виде пучка (луча) с большой энергией направляется на мишень, вынесенную за пределы зоны существования плазмы; изделие, на к-рое оседает распылённое вещество мишени, также располагается вне этой зоны. В результате того что и подложка, и мишень находятся в относительно высоком вакууме, плёнки, полученные напылением, по составу оказываются более совершенными, чем плёнки, созданные ионно-плазменным нанесением. Кроме того, этот способ обеспечивает возможность получения плёнок с улучшенными характеристиками; например, распыляя мишень одним ионным лучом и одновременно обрабатывая подложку др. лучом, можно создавать плёнки с однородной структурой повыш. плотности. С этой же целью вместо распыления иногда применяют испарение осаждаемого вещества с одноврем. ионно-лучевой обработкой наносимой плёнки непосредственно на подложке.

Copyright © 2002 - 2017 Ravnopravie.kharkov.ua. All Rights Reserved.