Уменьшение концентрации газа внутри баллона электровакуумного прибора или в рабочей камере тех-нологич. вакуумной установки с помощью откачных устройств (вакуумных насосов, вакуумных агрегатов, откачных постов и др.) и газопоглотителя (геттера). В процессе О. из откачиваемого объёма удаляется воздух, а также газы, выделяющиеся с поверхности стенок объёма и находящихся внутри элементов, и газы, натекающие в объём через неплотности соединений и вследствие проницаемости стенок. Принципиальная схема вакуумной системы для О. В общем случае процесс О. характеризуется скоростью удаления газа из откачиваемого объёма, производительностью откачного устройства, уровнями давления в откачиваемом объёме и на входе откачного устройства, проводимостью коммуникации, соединяющей откачное устройство с откачиваемым пространством.

Различают два режима процесса О.: стационарный и нестационарный. При стационарном режиме кол-во газа, удаляемого в ед. времени из откачиваемого пространства, равно кол-ву газа, поступающего в него за тот же промежуток времени. Такой режим характеризуется постоянством во времени потока откачиваемого газа, давления и режима течения газа в любом сечении тракта О. Стационарный режим процесса О. имеет место, например, в вакуумно-напылит. установках с пост, напуском газа при осаждении тонких плёнок методом распыления, при ионном и плазмохим. травлении и др. Для стационарного режима осн. параметрами, определяющими О., являются производительность откачкой системы и рабочее давление в откачиваемом объёме.

Нестационарный режим О. характеризуется непрерывным изменением давления и потока газа в каждом сечении вакуумной системы. Наиболее часто в вакуумных процессах встречается разновидность нестационарного режима - квазистационарный режим, который характеризуется тем, что объём тракта О. значительно меньше откачиваемого объёма, а разность давлений на концах тракта О. мала по сравнению со ср. давлением в нём и в тракте в каждый момент времени существует один режим течения газа. Квазистационарный режим имеет место в большинстве вакуумно-технологич. процессов, например при начальной О. до рабочего давления любой вакуумной системы, в т. ч. и системы, в которой рабочим процессом О. является стационарный процесс. При квазистационарном режиме к осн. параметрам, определяющим процесс О., относятся время откачки объёма от начального давления до требуемого конечного давления и быстрота действия откачной системы, необходимая для достижения требуемого давления за определённый промежуток времени. Аналитич. определение времени О. в высоковакуумных системах весьма затруднительно из-за сложности учёта изменения по времени газовыделения, интенсивности прогрева, изменения быстроты действия вакуумного насоса от изменения давления в откачиваемом пространстве, избирательности откачных устр-в по отношению к различным газам и т. д. Типичная зависимость (для непрогреваемой высоковакуумной системы) изменения давления в откачиваемом пространстве от времени откачки.

Быстрота действия вакуумного насоса, необходимая для обеспечения требуемой быстроты О., во многом определяется проводимостью коммуникации, которая зависит как от характера соединения элементов коммуникации (трубопроводов, клапанов, ловушек и др.), так и от режима течения газа в коммуникации. Элементы коммуникации могут быть соединены между собой последовательно (газ проходит поочерёдно через все элементы) или параллельно (поток газа разветвляется по неск. элементам). Проводимость коммуникации аналогична проводимости электрич. цепи: при параллельном соединении элементов суммируются их проводимости, а при последовательном - величины, обратные проводимости элементов.О. применяется в произ-ве ИЭТ при изготовлении электровакуумных и газоразрядных приборов в процессах осаждения и травления материалов, молекулярно-лучевой эпи-таксии, ионной имплантации, электронного и термич. отжига, в произ-ве ИС и ПП приборов, в процессах электронной и ионной литографии и др. О. широко используется в разл. исследоват. установках (например, для исследования процессов нанесения тонких плёнок, молекулярно-лучевой эпитаксии) и в технологич. агрегатах (см. Вакуумная напылительная техника).