ИОННО-ПЛАЗМЕННОЕ ТРАВЛЕНИЕ

Способ удаления вещества с поверхности подложки с использованием компонентов низкотемпературной газоразрядной плазмы - ионов, электронов, возбуждённых атомов и свободных радикалов. В зависимости от механизма процессов, протекающих на обрабатываемой поверхности подложки, различают ионное, ионно-хим. и плазмохим. травление.  

По сравнению с обычным хим. травлением И.-п. т. имеет ряд важных преимуществ, основными из которых являются: высокая разрешающая способность (для получения рельефной поверхности по заданной топологии с мин. боковым растравливанием); возможность совмещения в единой технологич. установке последовательно выполняемых операций травления, удаления защитных масок и очистки поверхности подложки (см. Ионная очистка); возможность осуществления частичной или полной автоматизации технологич. процесса. Кроме того, И.-п. т. практически не загрязняет окружающую среду, т. к. в операциях И.-п. т. участвует значительно меньше, чем при обычном хим. травлении, рабочих газов и смесей.

Copyright © 2002 - 2017 Ravnopravie.kharkov.ua. All Rights Reserved.