ИОННО-ЛУЧЕВАЯ ОБРАБОТКА

Воздействие сфо-кусированными пучками ионов средних и высоких энергий (5-500 кэВ) на металлы, полупроводники или диэлектрики для общего либо частичного изменения их свойств. При И.-л. о. изменяются структура и фазовый состав обрабатываемого материала в результате перераспределения атомов внутри фиксир. объёма без изменения его ср. хим. состава и геометрич. размеров (см. Модифицирование материалов). Осн. направления И.-л. о.: создание тонких резких р-п-переходов в ПП (см. Ионное легирование); нетермич. активация процессов диффузии легирующих примесей; обработка ионорезистов, а также изменение свойств фоторезистов для изготовления фотошаблонов с высокой износоустойчивостью (например, при И.-л. о. плёнки фоторезиста ионами Р или Аг значительно уменьшается прозрачность плёнки для излучений с дл. волны л=300-600 нм, а её механич., тепловая и хим. стойкость возрастают).

Чередование И.-л. о. с отжигом в вакууме используется для эффективной очистки подложек от нежелат. примесей: при термообработке примеси диффундируют в приповерхностный слой подложки, который затем удаляется вместе с примесями посредством ионной очистки или ионно-плазменного травления. в. п. п/гачевич.

Copyright © 2002 - 2017 Ravnopravie.kharkov.ua. All Rights Reserved.